光刻高级工程师

岗位职责

1、配合经理开展新产品平台工艺搭建，推进工艺项目持续优化；

2、协助经理根据部门目标、产品工艺标准及产能需求，规划黄光区机台类型与配置数量；

3、主导Track/Scanner机台的调试、工艺开发、工艺调优及Cpk提升等相关工作；

4、主导光刻制程问题分析，减少工艺异常频次，提升产品性能与良率，确保光刻工艺稳定性及设备正常运转；

5、推动设备与工艺相关生产成本的持续降低；

6、主导光刻区域设备与工艺规范文件的编制与评审；

7、负责光刻区设备、材料及备件供应商的技术协作，推动质量与成本改进；

8、协同公司内部工程、运营及商务团队，在设备与工艺选型、供应链管理及客户质量问题上提供决策支持与建议。

任职要求：

1、本科及以上学历，材料、物理、通信、机械、MEMS、光电子、微电子等相关专业；

2、具备5年以上半导体光刻工作经验，有射频前端、射频滤波器或射频放大器相关经验者优先；

3、熟悉半导体制造流程，具有Nikon光刻机、CDSEM、OVL设备工艺经验者优先；

4、具备项目执行与改善案例经验，擅长数据分析与报告整理；

5、具备良好的英文沟通能力，会日语者优先考虑；

6、责任心强，具备较强的抗压能力和团队协作精神。